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CVD系统

二维材料制备碳纳米管

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迷你型CVD系统

更新时间：2021-09-27

型号：

浏览量：1713

迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
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1700度高温CVD系统（高真空低真空可选）

更新时间：2021-09-27

型号：

浏览量：3287

BTF-1700C-CVD1700度高温CVD系统（高真空低真空可选）是由1700度管式炉、三路质量流量计系统以及国产高真空系统（或选配低真空系统）所组成。
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BTF-1200C-V-R-280回转CVD设备

更新时间：2020-08-11

型号：BTF-1200C-V-R-280

浏览量：947

回转CVD设备： 1、本设备提供一个五温区的超长温场，五个温区可独立控制 2、保温材料采用氧化铝纤维防尘处理，上下可电动开启。 3、流量计和加热采用模块化设计，便于维护保养。 4、加热元件采用康泰尔掺钼合金电阻丝，z高使用温度可以达到1200度，使用寿命长，温场流场均匀。 5、采用触摸屏和工控电脑自动控制，参数设置和操作直观方便，参数自动记录保持。 6、设备集成化设计、以及集成化管理，美观方便
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BTF-1200C-SK摇摆炉

更新时间：2020-07-28

型号：BTF-1200C-SK

浏览量：810

摇摆炉BTF-1200C-SK 1.，30段可编程精密温度控制器 2.可根据不同的客户需求来设定升降温程序 3.可设定取放料工位 4.设定摇摆起始工位（如横向作为起始工位），可实现液晶屏一键归位 5.可通过摇摆提高熔体均匀性、细化晶粒
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BTF-1200C-S-SL-CVD非气态源化学气相沉积系统

更新时间：2020-06-23

型号：BTF-1200C-S-SL-CVD

浏览量：888

非气态源化学气相沉积系统 1.前驱体灌温度可达400℃； 2.温度独立可调； 3.固态或液态前驱体在一定温度下蒸发后通过惰性气体带入反应区域参与的一些CVD反应。
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BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系统管式炉

更新时间：2020-05-07

型号：BTF-1200C-S-PECVD

浏览量：987

微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-100W可调；温度范围宽：100-1200度可调；溅射区域宽：0-600mm可调；适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
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BTF-1200C-LH-CVD流化床CVD系统

更新时间：2019-11-06

型号：BTF-1200C-LH-CVD

浏览量：1616

流化床CVD系统—化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管设备，该设备包括有：自动加液装置、超声波雾化发生装置、气体供应装置、气体流量控制装置、三温区流化床反应器及加热装置、旋风分离器、固体收集装置、净化处理装置。
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BTF-1200C-II-SL-二维材料设备CVD系统

更新时间：2018-06-12

型号：BTF-1200C-II-SL-

浏览量：2389

二维材料设备CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的反应腔体内部的气体压力和气体流量，对于做低压CVD实验非常实用，重复性好。
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