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PECVD系统

智能型简易版回转型

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谈谈PECVD系统的优缺点

BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系统

更新时间：2021-09-30

型号：BTF-1200C-S-PECVD

浏览量：4138

微型PECVD系统本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。
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智能型三温区PECVD

更新时间：2024-08-01

型号：

浏览量：3239

智能型三温区PECVD产品简介：本设备主要针对实验和中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。
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等离子辉光滑轨PECVD系统

更新时间：2020-06-17

型号：

浏览量：1895

等离子辉光滑轨PECVD系统 1.炉内温度场的均匀分布 2.可自行根据不同温度曲线 3.电气元件采用优质的进口产品高性能、免维护
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BTF-1200C-SSL-PECVD双炉PECVD

更新时间：2021-02-02

型号：BTF-1200C-SSL-PECVD

浏览量：1765

双炉PECVD（等离子化学气相沉积系统）系统，有多路质量流量计系统（进口流量计），真空机组（进口真空泵），PE射频电源（进口射频源），温控系统等装置构成。使用PE源将气源等离子化，有利于降低工艺温度，同时扩大工艺的使用条件，满足更多的工艺实验要求，如石墨烯、碳纳米管等，控制操作系统集成于触摸屏操作面板上，便于操作与观察。
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PECVD-III-500A-D210智能型PECVD系统

更新时间：2024-09-04

型号：PECVD-III-500A-D210

浏览量：130

PECVD-III-500A-D210是一款智能型PECVD系统。该设备主要分为四大部分：多温区管式炉、射频组件、气路系统、及自动化控制软件集成系统。
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BTF-1200C-R-PECVD台面式等离子体增强真空回转炉

更新时间：2024-08-23

型号：BTF-1200C-R-PECVD

浏览量：165

台面式等离子体增强真空回转炉BTF-1200C-R-PECVD，该设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下进行实验，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀。
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PECVD-500A-D智能型PECVD系统（含压力控制系统）

更新时间：2024-02-18

型号：PECVD-500A-D

浏览量：1840

智能PECVD设备是目前最新型的一款设备，将所有的控制部分集为一体，此款设备是我司于2013年研发成功的，可配备PE射频电源，将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体，可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用，从而很大程度上优化实验的工艺条件。
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BTF-1200C-R-PECVD等离子体增强回转PECVD系统

更新时间：2021-11-10

型号：BTF-1200C-R-PECVD

浏览量：2076

等离子体增强回转PECVD系统主要特点我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。
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