微型PECVD系统本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。

多通道管式集成设备BTF-1200C-6D为我司研发的新一代产品，将6台管式气氛炉集成与一体，且又能独立控制，可同时进行平行试验;顶上二组管式炉可半盖开启，可透过石英管直接观察样品烧结时的状态;整机液...

本款有机小分子提纯（升华仪）主要用途是在真空条件下对有机混合物进行升华达到纯化的目的（即蒸发后重结晶），主要处理的对象为具有升华性的有机材料，或具有流动相特性混合物如有机声光产品（如有机发光显示器用的...

ZMF-1700C-H2高温气氛箱式炉采用氧化铝纤维作为炉膛材料，以钼 丝作为加热元件，炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口，以保证仪器工作时的密封性能。...

实验室高温箱式炉采用优质U型硅棒加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。

低真空CVD石墨烯生长系统是由1200度开启式管式炉、精密的质量流量控制系和真空系统所组成。广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能

BTF-1700C-CVD1700度高温CVD系统 （高真空 低真空可选）是由1700度管式炉、三路质量流量计系统以及国产高真空系统（或选配低真空系统）所组成。

此款立式管式炉法兰可上下多档移动，法兰上的特殊设计方便挂烧样件，实现真空或气氛下的淬火实验，广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。

双温区管式炉广泛应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结，基片镀膜等实验环境。技术成熟，质量可靠，温场均匀，结构合理。

1750℃ 高温硅钼棒加热管式炉的炉体采用双层风冷机构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60度。